Questão pública

Questão de Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica

CESPE/CEBRASPE - LNA - Tecnologista - Área: Desenvolvimento e Integração/Planejamento e Execução - 2024 • CEBRASPE • 2024

Acerca da técnica de deposição química por vapor, assinale a opção correta.

É inviável a utilização dessa técnica com filmes de óxido de silício.

A deposição química por vapor é um método de crescimento escalonável para a síntese de filmes finos.

Uma baixa razão de velocidade, em moléculas por segundo, implica uma espessura pouco controlada.

A velocidade de reação da superfície depende da pressão.

A referida técnica é ineficiente para a produção de dispositivos para aplicações em optoeletrônica.

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